4月16日晚，中微公司（688012）披露2019年年度报告。2019年，中微公司实现营业收入19.47亿元，同比增长18.77%；实现归属于上市公司股东的净利润1.89亿元，同比增长107.51%；扣非后净利润1.48亿元，同比增长41.48%；2019年中微公司投入研发4.25亿元，占营业收入比重为21.81%。

　　中微公司董事长尹志尧在年报开篇致辞中介绍，面对纷繁复杂的形势，2019年中微公司在刻蚀设备和 MOCVD 设备的研发、技术的新应用、市场布局的调整和拓展、新业务的探索和展开等许多方面取得了积极的进展。中微公司的等离子体刻蚀设备已应用在国内外知名厂商55纳米到5纳米的众多芯片生产线上；电容性CCP等离子体刻蚀设备，已在国际领先的晶圆生产线核准5纳米的若干关键步骤的加工。

　　目前，公司正在开发新一代的电容性等离子体刻蚀设备，可加工先进逻辑器件，包括大马士革在内的各种刻蚀应用，能够涵盖5纳米及更先进工艺刻蚀需求和更多关键应用。公司的电容性等离子体介质刻蚀设备已应用于64层闪存器件的量产，正在开发新一代涵盖128层和更先进关键刻蚀应用的刻蚀设备和工艺。

　　此外，中微公司的电感性ICP等离子刻蚀设备已经在多个逻辑芯片和存储芯片厂商的生产线上量产，正在进行下一代产品的研发，以满足7纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3D NAND芯片等产品的刻蚀需求。

　　中微公司的MOCVD设备已在全球氮化镓基LED设备市场中占据领先地位。公司研发的用于制造深紫外光LED的MOCVD设备已在行业领先客户端验证成功。用于Mini LED生产的MOCVD设备的研发工作正在有序进行中。制造 Micro LED、功率器件等需要的MOCVD设备也在开发中。

　　同时，公司兼顾外延性发展，子公司中微汇链、中微惠创在新业务拓展领域取得了积极的进展。年报介绍，中微公司完成对洪朴科技和Solayer公司的投资，参股投资的沈阳拓荆等项目营运表现良好，协同效应逐步呈现。

　　展望未来，中微公司表示，公司目前开发的产品以集成电路前道生产的等离子体刻蚀设备，照明应用的薄膜沉积设备等关键设备为主，并已逐步开发应用于集成电路后道的先进封装设备，以及MEMS、Mini LED等应用领域的设备产品。未来，公司将通过投资、并购等外延式成长途径扩大在集成电路领域及泛半导体领域的产品和市场覆盖，并继续探索核心技术在国计民生中创新性的应用，不断推动企业健康发展。

　　对于疫情影响，中微公司提示，疫情对半导体行业上下游的影响仍在持续，市场对公司所处行业上下游的影响也传递至公司，对公司的经营造成一定影响。